博士,助理研究员

younannan@ime.ac.cn

北京市朝阳区北土城西路3号中科院微电子研究所

教育经历

2017.9-2022.6 中国科学院微电子研究所 微电子学与固体电子学  工学博士

2013.9-2017.6 合肥工业大学 信息工程系  微电子科学与工程  工学学士

工作经历

2022.6 – 至今 中国科学院微电子研究所 助理研究员

研究方向

主要从事SiC MOS栅氧内容的研究, 包括等离子体氧化动力学和热氧氧化动力学,理论与建模、栅界面及栅介质质量表征分析,迁移率表征分析等。

代表论文

  1. Nannan You, Xinyu Liu, Jilong Hao, et al. Microwave plasma oxidation kinetics of SiC based on fast oxygen exchange, Vacuum,2020,182 (109762). (SCI)
  2. Nannan You, Xinyu Liu, Yun Bai, et al. Oxidation kinetics of SiC in microwave oxygen plasma, Applied Surface Science,2021,562 (150165). (SCI)
  3. Nannan You, Xinyu Liu, Yun Bai, et al. Demonstration of non-negligible oxygen exchange in the thermal oxidation of silicon carbide, Vacuum,2021,191 (110403). (SCI)
  4. Nannan You, Shengkai Wang, Jilong Hao, et al. Investigation of SiC microwave plasma oxidation kinetics via oxygen isotope labelling, International Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ICSCRM) 2019. (国际会议)
  5. Nannan You, Xinyu Liu, Yun Bai, et al. Oxygen Out-diffusion to the Ambient During SiO2/SiC Oxidation, International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS (IWDTF) 2021. (国际会议)